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抗粘設備在納米壓印工藝中的重要性
納米壓印技術是一種基于機械轉移原理的微納加工技術,主要用于通過模板將微納結構轉印至材料表面。其工藝包含模板制備、壓印成型和刻蝕加工三階段,分辨率可達2-5納米,突破了傳統光刻技術的物理限制。
納米壓印技術中的抗黏機制對實現超精密圖案轉移至關重要。界面黏附會導致圖案失真,易發生拉伸變形或斷裂剝離。表面能差異引發的毛細作用力會造成圖案邊緣的鋸齒狀缺陷。模具耐久性方面,周期性黏附-剝離過程會導致硅模具在多次壓印循環后出現漂移。化學鍵合現象在高溫高壓下會加速模具表面鈍化層的破壞。
脫模過程中,粘連限制了圖形的精確轉移,因此,抗粘連成為納米壓印技術需要解決的關鍵問題.抗粘連涂層的制備,即脫模劑蒸鍍工藝非常重要.
抗粘設備用途
抗黏劑(脫模劑)蒸鍍(氣相沉積)
抗粘設備性能
氣路系統:N2、硅烷與其他反應氣體輸送。
反應腔室:耐高溫、耐腐蝕材料制成,配備加熱器。
真空系統:維持低氣壓環境,可達1Torr以下。
尾氣處理裝置:處理未反應的硅烷(因硅烷易燃易爆,需通過燃燒或吸附中和)。
控制系統:人機界面,監控溫度、壓力、氣體流量等參數。
溫控系統:RT-200℃高精度溫控器+RSS回路,防超溫保護裝置
安全系統:集成自動硅烷加注系統和微電腦控溫模塊,實現真空抽排、氮氣置換、溫度控制的全流程自動化?。一鍵式操作界面支持多組程序存儲,滿足2英寸至12英寸晶圓的差異化處理需求?。
